製程用功能性化學品

品名	化學式	應用
BOE	NH4+HF
EBR	C4H10O2+C6H12O3	光阻稀釋清洗
N型Si蝕刻液	H2SO4 Base	硅背粗化
P型Si蝕刻液	H2SO4 Base	硅背粗化
金屬蝕刻液		金屬蝕刻
銅電鍍液	CuSO4 Base	IC線路成型，可用於N7、N5
鈷電鍍液		IC線路成型，可用於N7、N5
切割清洗液	H2O Base	芯片切割時表面清洗
鐳射切割保護液		鐳射切割時芯片表面保護
殘膠清洗劑		IC半導體製程 LED製程 III-V 族射頻IC製程先進銅製程清潔劑 *其他特殊清洗液